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x射線熒光膜厚分析儀
  • x射線熒光膜厚分析儀
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產(chǎn)品描述

分析范圍0-50微米 分析精度5 較薄測(cè)試0.005微米 儀器架構(gòu)上照式 儀器重量90公斤 分析時(shí)間30S 環(huán)境濕度小于70 環(huán)境溫度15-30度 準(zhǔn)指孔0.2mm 重復(fù)性0.1

x射線熒光膜厚分析儀技術(shù)參數(shù)和性能介紹,x射線熒光膜厚分析儀是用來(lái)測(cè)量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來(lái)連續(xù)或抽樣測(cè)量產(chǎn)品的厚度(如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料)。滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求。φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求。高精度平臺(tái)可測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm。采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度。定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊。

產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)

型號(hào):Thick 800A

元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。
同時(shí)可以分析30種以上元素,五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9 。
鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:90kg


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產(chǎn)品推薦

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

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